Intel annonce l'achèvement de l'assemblage de la première machine de lithographie EUV commerciale à haute NA au monde

MSN - 19/04
IT House News le 19 avril, Intel a annoncé aujourd'hui avoir achevé l'assemblage de la première machine de lithographie EUV commerciale à haute NA (0,55 NA) au monde dans son usine de R&D Fab D1X à Hillsboro, Oregon, États-Unis. Elle est désormais entrée dans le système optique. étape d’étalonnage. ▲ Source de l'image Communiqué de presse Intel Ce modèle de machine de lithographie TWINSCAN EXE:5000 est la machine de lithographie EUV High NA de première génération d'ASML, d'une valeur d'environ 350 millions...

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